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旋轉(zhuǎn)式沉積設(shè)備

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詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹


我公司研發(fā)生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)集真空管式爐,多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn),各款管式爐,氣路系統(tǒng)和真空機(jī)組可多種方式組合,真空泵、閥均采用進(jìn)口產(chǎn)品,性能可靠??刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù),具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡(jiǎn)單易操作等特點(diǎn)。CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)


1.該設(shè)備生長(zhǎng)溫度更低
2.使用滑軌爐實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫,沉積速率快
3.設(shè)備輝光均勻等效,均勻生長(zhǎng),成膜質(zhì)量好
4.支持外部真空規(guī)和壓力變送器
5.支持智能進(jìn)氣,根據(jù)需要設(shè)定不同的溫度,自動(dòng)進(jìn)氣,進(jìn)氣定時(shí)間到后自動(dòng)停止進(jìn)氣
6.支持云端數(shù)據(jù)存儲(chǔ),隨時(shí)查看數(shù)據(jù)
7.支持爐膛移動(dòng)速度調(diào)節(jié)
8.支持射頻電源根據(jù)外部工況條件自動(dòng)啟動(dòng)停止
9.支持壓力恒定,壓力可以設(shè)定
10.支持超壓保護(hù),最大壓力值可以設(shè)定,超過(guò)后系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)入保護(hù)狀態(tài)